如何把潔凈工程室中的溫濕度控制好

　　潔凈工程是一個(gè)應(yīng)用非常廣泛的基礎(chǔ)性配套產(chǎn)業(yè)，在21世紀(jì)里，廣泛應(yīng)用于精密制造、電子信息、半導(dǎo)體、醫(yī)藥衛(wèi)生、光電子、生物工程、汽車(chē)噴涂以及航天航空等眾多的行業(yè)，并且根據(jù)不同行業(yè)的精密與無(wú)塵的不同要求，其等級(jí)差別也相對(duì)較大。

　　目前，潔凈工程的應(yīng)用級(jí)別最高的是航天航空的航空倉(cāng)，基本是屬于一級(jí)，屬于特殊領(lǐng)域，面積相對(duì)較小。另外對(duì)于級(jí)別要求較高的是高精納米材料生產(chǎn)車(chē)間和生化實(shí)驗(yàn)室，所以說(shuō)，空調(diào)凈化工程將是未來(lái)需求的一大方向。

　　潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)不同客戶(hù)的工藝要求來(lái)確定，我司提供自由定制潔凈工程、地下室防排煙工程等，工程的大小、規(guī)格與要求都能滿(mǎn)足廣大客戶(hù)的需求。在溫濕度方面，在滿(mǎn)足工藝要求的條件下，也應(yīng)考慮到工作人員的舒適感。

　　此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高，粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn) 濕度范圍為35—45%。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，不像冷庫(kù)工程，只要求度數(shù)，而不要求潔凈度，這種相對(duì)要求嚴(yán)格的工程，最合適就是選擇凈化工程。